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          這些有關PECVD系統的特點,您知道幾點?

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             PECVD系統就是為了使傳統的化學氣象沉積反應溫度降低,普通CVD設備的沉積溫度大多在900℃左右,而在普通CVD裝置的前端加入RF射頻感應裝置將反應氣體電離,形成等離子體,利用等離子體的活性來促進反應,可以使化學氣相沉積的溫度降到400℃左右,所以這個系統稱為增強型化學氣相沉積系統。
            PECVD綜合了國內大多數廠家的PECVD系統的優點,觸摸屏集中一鍵控制,實驗證明此結構沉積速度快,成膜質量好,針孔較少,不易龜裂。而且控制部分采用了自主研發的實驗電爐AIO全自動智能控制系統,使得操作更加簡便,功能更加強大。
            產品用途:
            PECVD系統是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學活性很強,很容易發生反應,在基片上沉積出所期望的薄膜。
            主要特點:
            1、智能氣路通斷:每路氣體均可定時通斷,自由切換,省時省力;
            2、射頻功率的定時控制:預先設定好功率的大小和打開與關閉的時間,自動運行;
            3、整機結構融為一體:整機長度只有1.5米,移動方便,避免分散組裝的困擾。
            4、AIO控制系統:加熱控制、等離子射頻控制、氣體流量控制、真空系統控制集中于一個7英寸觸摸屏進行統一集中調節和操控,協調控制:成儀AIO控制系統;
            5、爐膛移動速度可調:根據實驗要求,用戶可設定爐膛左右移動的速度和距離,在沉積結束后爐膛可自動移開沉積區,使樣品快速冷卻;
            6、管內真空度自動平衡:管內真空度實時監測,自動平衡。PECVD工藝要求石英管內真空度通常在0.1~100Pa之間,PECVD的AIO控制系統會通過真空泵的自動啟停來維持用戶設定的管內真空度,使成膜效果達Z佳的均勻性。

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