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          當前位置:首頁產品中心管式爐系列CVD/PECVD系統化學氣相沉積爐(CVD系統)

          化學氣相沉積爐(CVD系統)

          產品簡介

          這款CVD系統集真空管式爐,多通道氣路系統和真空系統組成,可根據用戶需要設計生產(有雙溫區、三溫區、多溫區),可預抽真空(有高真空、低真空),通多種氣氛(供氣系統有質子流量器和浮子流量控制器)。性能可靠??刂齐娐愤x用模糊PID程控技術,具有控溫精度高,溫沖幅度小,性能可靠,簡單易操作等特點。

          產品型號:
          更新時間:2024-04-01
          廠商性質:生產廠家
          訪問量:14000
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           一、產品應用

            高真空CVD系統是一款專業在沉底材料上生長高質量石墨烯、碳納米管、碳化硅的設備,廣泛應用于在半導體、納米材料、碳纖維、碳化硅、鍍膜等新材料新工藝領域。 

          CVD系統

          CVD系統

           

          二、產品特點

            高真空CVD系統主要由高溫腔體、石英管、石英支架、氣路系統、分子泵機組、自動化控制系統、冷卻系統等組成。

          1、沉底材料可采用銅箔、石墨等;

          2、生長腔體采用進口高純石英管,配石英支架、為石墨烯等材料的生長提供潔凈環境;

          3、爐膛采用進口高純氧化鋁多晶體纖維,不易掉粉、壽命長且保溫性能好。加熱絲采用優質摻鉬鐵鉻鋁合金加熱絲,溫場均勻,能耗低;

          4、密封法蘭均采用不銹鋼材質,配水冷套,可連續長時間工作;

          5、氣路系統采用兩路質量流量計(可拓展多路),配預混系統;

          6、氣體種類: He/Ar、C2H2、NH3、N2, H2、PH3、GeH4、B2H6;

          7、溫度、氣體、真空、冷卻水等通過PLC控制,通過PC實時控制和顯示相關的實驗參數,自動保存實驗參數,也可采用手動控制; 

          8、系統采用集成化設計,控制系統、混氣罐、質量流量計等均內置在箱體內部,占地面積小。整體安裝四個可移動輪子,方便整體移動。

          三、技術參數 

           

          型號

           

           

          HTF1200-2.5/20-2F-LV

           

          HTF1200-5/20-4F-HV

           

          HTF1200-6/40-2M-LV 

           

           

          HTF1200-8/40-4M-HV 

           

           

          設計溫度(℃)

           

          1200 

           

           

          1200 

           

           

          1200 

           

           

          1200 

           

           

          控溫精度(℃)

           

          ±1 

           

           

          ±1  

           

           

          ±1  

           

           ±1 

           

           加熱區直徑(mm)

           

          25 

           

           

          50 

           

           

          60 

           

           

          80 

           

           

           加熱區長度(mm)

           

          200 

           

           

          200 

           

           

          400 

           

           

          400 

           

           

           加熱管長度(mm)

           

          450 

           

           

          450 

           

           

          1000 

           

           

          1000 

           

           

           恒溫區長度(mm)

           

          80 

           

           

          80 

           

           

          150 

           

           

          150 

           

           

          額定電壓(V)

           

          220 

           

           

          220 

           

           

          220 

           

           

          220 

           

           

          額定功率(KVA)

           

          1.2 

           

           

          1.2 

           

           

           

           

           

           

          真空機組

           

          HTF-101 

           

           

          HTF-103 

           

           

          HTF-101 

           

           

          HTF-103 

           

           

          供氣系統

           

          HTF-2F 

           

           

          HTF-4F 

           

           

          HTF-2M 

           

           

          HTF-4M 

           

           

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